光刻机

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光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。收起

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  • 芯片的“面积诅咒”:为啥你的CPU面积大不过一块巧克力?
    想象一下,你是个芯片设计师,雄心勃勃,想搞个超级巨无霸芯片,让计算力原地起飞! 结果,你刚撸起袖子,就被一盆冷水浇醒,光刻机这位“刻印大师”冷冷地说:“尺寸?别想了,最大就给你一块巧克力那么大!” 这块“巧克力”有多大呢? 大约 26mm x 33mm,也就是 858 平方毫米。 这就是芯片制造的核心工艺——光刻的“光照窗口限制”(也叫掩模版限制)。 简单说,光刻机一次曝光,最多只能雕刻这么大一块
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    7小时前
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  • 国产光刻机交付500台!上海创企,成立仅6个月
    先进封装光刻机全球市占率达到35%,国内市占率达到90%。8月11日报道,8月8日,国产步进光刻机领军企业上海芯上微装(英文简称:AMIES)举办了第500台步进光刻机交付仪式。此次发运的第500台步进光刻机将交付给盛合晶微半导体(江阴)有限公司。
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  • ASML业绩预警,股价暴跌8.33%!
    7月16日,光刻机大厂ASML发布了2025年第二季度财报,营收及净利润均实现了不错的同比增长,新增订单和毛利率也高于预期。ASML在该季度还交付了首台第二代 High NA EUV 光刻机TWINSCAN EXE:5200B。
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    07/28 09:24
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  • 新款光刻机,明年上市!
    日本光学巨头尼康近日宣布,从今年7月起正式接受其全新数字光刻系统DSP-100的订单,首批设备预计在2026财年内交付客户产线。这款专为半导体后道封装工艺设计的设备,瞄准了人工智能芯片爆发催生的先进封装需求。
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    07/25 15:08
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  • ASML、尼康同时官宣新设备,光刻机市场火药味渐浓?
    芯片制造流程极为复杂,光刻工艺则是其中最关键的一环,光刻确定了芯片的关键尺寸,在整个芯片制造过程中约占据整体制造成本的35%。可以说光刻机的技术水平会直接影响半导体制造工艺的精度和效率,是制造出足够微小、精确、高效率的集成电路的关键因素。
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