尖端ArF浸液光刻光源“GT66A”正式量产出货

interfaxchina

2021年10月26日，半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社宣布，其尖端ArF浸液光刻光源“GT66A”在世界半导体制造商中正式投入量产出货。

最近，数字设备和云设备在全球范围内迅速增多，用于这些设备的半导体需求也在急剧增加。此外，在企业端DX的渗透、碳中和的EV增产、可再生能源的转型等社会基础建设中，半导体发挥着核心作用。特别是自动驾驶以及兼具高速运算·低功耗的高端设备的市场需求增加更加剧了半导体的需求。

GT66A既可以对应此类高端设备所需5nm半导体制程，也可应对下世代的半导体制程生产。

另外，GT66A通过降低散斑对比度（30%），降低了布局与光阻曝光图像的EPE偏差，从而抑制与图像细微粗糙度相关的LER、以及由于粗糙度产生的图像宽度偏差相关的LWR，从而实现成品率的提高。另外，由于导入了高耐久零件设备的维护周期延长了30%，从而提高了设备的使用率以及生产效率。

GIGAPHOTON代表取缔役兼CEO浦中克己进行了表示：“为了实现尖端半导体的稳定·高效率的生产、特别是尖端生产制程的生产性能，GT66A应运而生。GIGAPHOTON会持续致力于半导体工厂的市场性能最大化，并持续不懈地努力。”